二手 KLA / TENCOR EV300 #9191448 待售
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ID: 9191448
优质的: 2002
Defect review system
Open cassette
With GENMARK single end-effector robot
Cassette type: Dual open cassette, 8"
Camera: High & Low MAG
With EDX in box and line conditioner
With Dry pump console powered box and vac-pump included
2002 vintage.
KLA/TENCOR EV300是一种掩模和晶圆检测设备，有助于确保先进半导体元件的最高质量。它在测量、验证和验证掩模和晶片生产特性时提供了卓越的性能。KLA EV 300的扫描电子显微镜（SEM）技术能够发现和隔离掩模层和晶片层的生产缺陷。其分辨率明显大于传统光学成像系统。这使TENCOR EV-300能够检查更大的图桉尺寸,并提高测量精度和更快的吞吐量。此外,KLA/TENCOR EV-300专有的FocSEM算法提供了卓越的成像分辨率,使检测传统REI系统未发现的缺陷变得更加容易。KLA EV300单元还允许同时检查掩模和晶片上的各种特征,包括线条、边缘、通孔、接触垫和电线。此外,它还有一个内置验证算法,用于检查间隔器和每个模具的对齐情况。KLA/TENCOR EV 300机器还包括KLA专有的ScanType布局测量解决方桉（STM）,它允许掩模和晶片上每个图样的像素级精度。此外,EV-300的Renalogix检查套件还提供了对关键缺陷、产量监控和刀具性能趋势的彻底检查/故障分析。TENCOR EV300还包括一系列专门工具。这些专门的软件包提供了对掩码和晶圆模式的额外分析。TENCOR缺陷分析解决方桉（DAS）模块提供了一个易于使用的解决方桉,用于分析、分类和过滤缺陷数据,并提供有关缺陷及其在掩模和晶片上的大小、形状、位置和方向的详细信息。KLA/TENCOR Alignment Certification Suite （ACS）提供了可视化工具来分析对齐错误,以及测量初始设计的大小、旋转和位置偏移的能力。EV 300具有现代过程控制和质量保证所需的先进软硬件控制系统。它包括控制功能的强大组合,如自动阶段校准、晶圆尺寸检测、晶圆选择性、模式检测、向前/反向/反射模式缝合、自动缺陷分析和报告,以及高级检查算法和软件。所有这些特性使得TENCOR EV 300成为强大有效的掩模和晶圆检测资产。EV300既高度自动化又易于使用,因此可以快速集成到现有的生产过程中。由于其高度可配置的功能集,它还可以应对新的流程挑战。有了这种模式，用户可以确信自己的产品符合最严格的质量标准。
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