二手 KLA / TENCOR EV300 #9267083 待售

KLA/TENCOR EV300是为关键光学和计量应用而设计的全自动高清掩模和晶圆检测设备。KLA EV 300利用先进的激光扫描干涉测量（LSI）技术,在广泛的掩模和晶圆技术平台上提供卓越的缺陷检测和快速屈服评估。该系统的高吞吐量吞吐量和更高的生产率可以加快周转速度,降低拥有成本。TENCOR EV-300包括一个专有的基于视觉的单元,可实现高通量的实时成像以及相移和强度成像,用于掩码和晶圆检查应用。这台机器允许检查大幅面的口罩，包括有机和无机口罩，以及标准的平板显示器基板，分辨率都大于0.2µm。该工具启用了相移功能,可用于高达0.1nm的掩模和基板检查,从而能够检测到严重缺陷,否则将无法使用传统的掩模检查技术进行检测。KLA EV300还包括一个激光扫描仪，该扫描仪设计用于最佳吞吐量和灵活性，同时进行成像和精确的缺陷检测。这是通过一项正在申请专利的光束转向执行器技术实现的，该技术可以改进扫描速率优化和易于校准。激光扫描引擎设计用于检测口罩和基板上的微缺陷，而专用的波前干涉仪则提供相移功能以进行更精确的检查。KLA/TENCOR EV-300还包括一套集成的软件工具,以增强过程控制和提高生产率。该软件包括一个直观的图形用户界面（GUI），它简化了检查和分析复杂的多层掩码的任务。此外,自定义用户界面的功能允许独特的用户体验和自动工作流。此外，软件还包括过程表征和分析功能，如数据分析、缺陷识别、表征和测试优化。总体而言,KLA/TENCOR EV 300是一种先进的全自动掩码和晶圆检查资产,专为关键光学和计量应用而设计。其高通量成像能力、激光扫描和专用波前干涉测量相结合，有助于促进缺陷检测和屈服评估，从而降低拥有成本，改善工艺控制。具备检测有机和无机口罩、标准平板显示器基板和微缺陷的能力,EV-300最大限度地提高了广泛应用的效率。