二手 KLA / TENCOR FLX 5200H #9148307 待售

KLA/TENCOR FLX 5200H是一种用于高通量亚纳米临界尺寸（CD）测量的自动掩模和晶圆检测设备。该系统使用先进的光学成像和计量学功能,为50 nm以下的特征级别提供无与伦比的分辨率和准确性。该装置能够执行广泛的模式和过程检查任务，从小型掩模特征到大型光刻结构。KLA FLX 5200H采用双轴检流计设计,具有大孔径光学元件和可容纳200 mm晶圆的卡盘。机器的光学器件布置在光学台上，最多可进行6条独立的检测路径，以完成不同的测量任务。光学器件由透镜、滤镜和探测器组成的激光FabSuite，用于优化光谱精度和实现高分辨率。全尺寸晶片级可实现精确对准的稳定测量结果。TENCOR FLX 5200H的设计满足了半导体行业具有挑战性的模式和工艺检测要求，具有广泛的检测任务和应用。该工具提供了卓越的聚焦深度,可以快速捕获aCIS图像,最好的计量方法使用100倍放大倍率来实现最精确的CD测量功能。此外,资产还可以执行广泛的掩蔽检查,以帮助识别缺陷并确保最准确的结果。FLX 5200H利用先进的图像处理和分析算法以及先进的计算机模型。内置配方处理和编码允许以尽可能最有效的数据管理快速原型设计。该设备使用专门为高速和高容量检查编写的软件运行。KLA/TENCOR FLX 5200H是一种先进的高规格、掩模和晶片检查系统,旨在提供自动化环境中尽可能最精确的检查和计量测量。该单元的激光光学、双轴运动和高分辨率晶片级保证了测量结果的质量，而其灵活的软件和易于集成到晶片晶片工艺中，使得各种应用实现了归一化和优化。