二手 KLA / TENCOR / ICOS CI-T130 #293639085 待售

KLA/TENCOR/ICOS CI-T130是一种先进的Mask&Wafer Inspection设备,旨在为芯片和Mask生产提供无与伦比的精度、速度和图像质量。该系统采用光学和成像技术的独特组合,提供了无与伦比的精度水平,并检查了低至0.003微米的特征尺寸。KLA CI-T130与化学机械抛光器（CMP）和化学气相沉积（CVD）系统完全集成,通过自动测量每个晶圆和掩模的表面轮廓和无缺陷地形,确保结果一致。该单元还使用强大的视觉算法来检测任何关键缺陷或潜在的产量损失。该机还通过其双光束光学器件提供真正的高分辨率成像。第一个光束是一个亮场OptiScan模式，捕获完整的图像数据进行100%的检查，最大分辨率为300毫米/像素。第二个光束是LED暗场OptiScan，提供30毫米/像素分辨率的高分辨率成像，用于检测使用更明亮的光学器件无法检测到的亚像素缺陷和粒状地形特征。ICOS CI-T130利用具有强大模式识别软件的最先进的图像处理引擎来提高查看清晰度和减少误报。该工具还提供逐层晶圆检查，允许用户快速准确地识别和诊断微观特征和缺陷。除了掩模和晶片检查之外,CI-T 130的功能还包括集成计量学、样品优先排序和缺陷分类。它还有一个内置的SPC数据记录资产，允许用户跟踪传入和传出的指标，为他们提供其生产线整体性能的一览表。总体而言,TENCOR CI-T130提供无与伦比的检查、成像和计量功能,以生产最优质的集成电路和掩码。凭借其业界领先的精度、速度和图像质量,用户可以信任KLA/TENCOR/ICOS CI-T130快速准确地检测和解决任何潜在的产量损失。