二手 KLA / TENCOR / ICOS WI-2000 #293639004 待售

KLA/TENCOR/ICOS WI-2000掩模和晶圆检测设备是半导体工业用来检测光刻掩模纳米尺度缺陷的创新工具。它能够检测尺寸小于0.39 µm的缺陷,精度为0.1 µm,同时发现掩模异常和基板拓扑。此外,KLA WI-2000的自动特征识别消除了手动检查和精确的故障隔离,从而提高了过程效率。ICOS WI-2000由多个模块组成。它的第一个模块是一个光学系统，旨在在晶圆的大部分上传送高分辨率图像。此单元使用21英寸显示器以显示SEM图像。它由显微镜、专利双扫描成像传感器和CCD成像相机组成。此外，它的设计目的是减少振动和消除扭曲，提供极其精确的图像集成控制机器。然后,集成控制工具将处理图像以进行缺陷和故障检测。它实现了几种算法，如最大熵方法、灰度相关、边缘直方图和区域增长，以准确快速地检测纳米尺度缺陷。此外,资产还能够识别复杂的特征,如线宽、桥接、曲面拓扑、边缘粗糙度和中间材料。此外,WI-2000拥有多种连接解决方桉,能够与CAD和CIM系统配合使用。这通过简化与其他系统的数据交换,进一步提高了模型的效率和生产率。它还具有超响应性的人机界面，使控制、监控和基本程序快速而简单。综上所述，KLA/TENKORTENCOR WI-2000是一种先进的掩模和晶圆检测设备，设计用于检测光刻掩模中的亚微米缺陷，精度、精度和卓越的速度。多个模块、强大的连接解决方桉和用户友好的界面进一步提高了系统的性能,使其成为半导体行业的宝贵检查工具。