二手 KLA / TENCOR ILM 2367 #9024433 待售

KLA/TENCOR ILM 2367是一种掩模和晶圆检验设备，旨在使半导体制造商能够加快生产过程，提高产量。该系统将聚焦离子束光刻技术与先进成像技术相结合，检测生产过程中产生的每个掩模和晶片的缺陷和结构完整性。它采用一种专利OptiFIBER™成像技术，利用多个光信号通道获得被扫描物体的精确3 D图像。KLA ILM 2367采用开放式、可扩展的体系结构,能够进行多种配置,从单个以晶圆为中心的FIB工作站到具有12个晶圆工作站和两个集成的FIB系统的完全定制单元。这使机器能够在10分钟内扫描多达1200个蒙版和晶片样本。在开发该工具的样本定位机制时也非常注重细节，该机制允许精确和可重复的样本位置。此外,集成的FIB资产允许在同一样品上的不同位置以更高的放大倍率和更长的观察时间进行局部成像。TENCOR ILM 2367还配有一个用户友好的可视化界面,用于控制任何PC或笔记本电脑的图像和样品处理。这样可以方便地访问各种成像质量和定位参数,从而使操作员能够快速自定义和设置参数以获得优异的效果。在检测结果中，ILM 2367能够极快地检测和分类缺陷类型。它能够检测到微粒、粘附和其他污染物到最小水平。它还利用3 D成像机制对任何曲面和结构进行精确测量。此外，该模型还可以检测到马刺、地形变化、门线阻力和其他微观结构特征。KLA/TENCOR ILM 2367还具有几个硬件和软件模块,以提高工作效率和可靠性。其中包括先进的数据采集系统、纳米定位阶段以及用于快速故障分析的快速检测模块。此外，还有一个强大的图像分割、缺陷检测和分类后处理算法。最后,设备可以在首选的主机工具中工作,以便轻松集成到现有生产线中。总体而言,KLA ILM 2367是一个功能强大的掩码和晶片检查系统,它提供了一种可靠和准确的方法来检测和分类各种缺陷,直至亚微米级。它具有快速、精确的扫描速度、出色的成像功能以及强大的硬件和软件模块,可提高工作效率和效率。因此，该装置将有助于确保在半导体生产中提高产量和减少废料。