二手 KLA / TENCOR / LEICA / VISTEC MIS 200 #9240451 待售
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ID: 9240451
晶圆大小: 8"
Inspection system, 8"
Handler and motor stage
No scope
No Hard Disk Drive (HDD).
LEICA/VISTEC MIS 200是为掩模和晶圆检查而设计的最先进的设备。该系统改进了光刻和光学技术，通过检测制造、组装和测试过程中的缺陷和异常，提高了集成电路和半导体设计的产量。LEICA MIS 200利用专利的同时二维、正面和背面图像捕获单元来检测、识别和量化缺陷。这包括同时扫描晶片的两侧,然后合并数据。设计中集成了大功率变焦镜头,可分别放大至x 70和x 30,甚至可以检测到非常小巧的掩模或前导框缺陷。设备的测量能力使得它对于评估模内或模间异常特别有用。该机器旨在促进多任务工作流。这允许用户管理多个进程，如缺陷和卢布检查，这些进程可以合并成一个作业，以减少时间和精力。此外,设备的可扩展性允许进行升级,以匹配不断提高的设计复杂性所需的生产吞吐量。VISTEC MIS 200软件由制造商提供,旨在便于图像编辑和高级分析。它配置了数据格式,允许跨多个生产站点进行简单的文件共享,从而有助于生产团队之间的通信和一致性。直观的用户界面提供了有效检查和分析掩码和晶片缺陷所需的所有工具。MIS 200适用于各行业的面膜和晶圆缺陷的精确检测和分析。对于任何需要对掩模和晶片缺陷进行准确、精确的检测和分析的生产来说，这是一个理想的选择。LEICA/VISTEC MIS 200有助于提高自动化和生产率,并确保更高的产品产量和质量。
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