二手 KLA / TENCOR MPV CD2 AMC #9043963 待售

KLA/TENCOR MPV CD2 AMC是一款先进的掩模和晶圆检测设备，结合了创新的测量算法和高速图像采集技术，对半导体掩模和晶圆进行精确的检测和分析。它旨在检测和分析掩模上的缺陷以及半导体器件的制造过程，从而使生产更加可靠和高效。该系统由主控制台和高分辨率数字显微镜组成，两者都连接到功能强大且可靠的基于PC的硬件。这样可以快速处理和测量掩模和晶片的图像。显微镜包括一台1200万像素的4倍数码变焦相机，最适合用于检查口罩和晶片上的小规模特征。此外,该单元还包含多个专门的软件程序,可轻松选择用于不同检查任务的最合适工具。KLA MPV CD2 AMC的主模块能够收集高达8k x 8k分辨率的三维数据，允许在检查晶片和掩模时实现无与伦比的性能。它包括高速图像采集机，允许在检查时高速扫描晶片。该工具还具有专门的算法，允许对小至0.1微米的缺陷进行快速检测。此外，它还具有用户可选择的算法，可用于以更高的精度和准确性分析数据。该资产还包括一个功能强大的测量软件，使用户能够快速评估结构的大小和形状，包括关键尺寸以及表面复杂性。该软件可用于检测非常小的缺陷，为制造商提供了一个更可靠的模型，用于检查精细的掩模和晶圆制造过程。TENCOR MPV CD2 AMC是一款真正可靠、创新的口罩和晶圆检测设备。它结合了强大的硬件和创新算法，创造了一个令人印象深刻的系统，非常适合检测大规模晶圆和掩模制造过程中的小缺陷。它的高速图像采集能力允许精确和高效的检查，使其成为复杂和小型半导体器件制造商的强大工具。