二手 KLA / TENCOR SCD-200 #9155471 待售

KLA/TENCOR SCD-200掩模和晶片检测设备是专门为满足最具挑战性的故障分析和生产应用的需求而设计的。它结合了高性能、高速度和高精度以及在设备、电路和布局级别表征掩码和晶片所需的灵活性和可扩展性。KLA SCD-200的掩模检查和临界缺陷检测能力是基于四亮度成像。通过提供四个独立的摄像机视图，拓扑和比色掩模特征的特殊照明可以实现对光场和暗场照明技术的照明。这样可以更准确地分辨出、检测和表征蒙版和晶片上的近乎关键的缺陷。该系统还提供了一整套冗余的半自动审阅工具。通过将直观的用户界面与先进的模式识别技术和缺陷检测算法相结合，TENCOR SCD-200可以快速准确地检测到最小的缺陷。强大的分割和标注能力进一步有助于缩短开发时间，提高检测精度。检验单位还配备了先进的行之有效的生产算法，采用精密的模煳检测、边缘检测和纹理分析技术。它们旨在"学习"每个掩模或晶片的信噪比,从而增强缺陷检测和特性识别功能,特别是对于具有挑战性的3D电路配置文件。机器还包括一套全面的可视化和分析能力。交互式3 D视图可以提供有关接近临界缺陷的详细信息,如迭加违规、抗流不规则、CD（临界维度）偏移和设计跟踪错误。高级可视化工具可帮助实现当今最全面的掩码和晶圆分析。SCD-200还提供了多种环境解决方桉，包括三级闭环冷却工具。这有助于确保资产在一致的温度范围内运行,从而提高稳定性和可靠性。此外,检查模型与流行SEMI-S2兼容的数据库兼容,从而可以存档缺陷报告,并在以后轻松检索这些报告以供进一步审查。综上所述，KLA/TENCOR SCD-200掩模和晶圆检测设备提供了一套全面的检测、分析和环境特征。它能够提供最高的准确度,从而加快产品上市速度并提高产品产量。