二手 KLA / TENCOR SL515 #9197021 待售

KLA/TENCOR SL515面膜晶片检测设备是一种高通量缺陷检测系统，可处理多种基材。它可以有效检测各种半导体过程中的微小缺陷，如光掩模、晶片、掩模毛坯、沉积膜和发达的抗蚀线。该单元具有200毫米至300毫米的视野，并使用三种成像技术，包括高分辨率光学、荧光和X射线成像。KLA SL515利用了亮场和斜光，改善了缺陷检测。其开发模式提供了一种用于识别图样边缘以及用于掩码对齐和焦点控制的边缘检测功能。该机器包括参数化和非参数化分析工具,用于验证从所检查的掩码和晶片收集的数据。它还提供报告和数据存储功能,以确保工具与其他工程和生产站点之间安全地通信质量数据。资产在通常需要其他类似规模的系统的一小部分时间内提供准确的结果。它可以检测和测量小至20纳米的缺陷，识别在350纳米范围内看到的特征，超过了为生产设定的标准。它包括缺陷分类、关联跟踪、缺陷识别、跨多个晶圆的缺陷跟踪、仔细的特征匹配算法以及与3rdparty软件系统集成的工具。该模型的核心是获得专利的图像优化技术，用于确定每项检查任务的最佳设备参数。这使系统能够通过识别对检查过程最重要的特征来准确检测和分类缺陷和特征。然后,设备的复杂算法利用这些信息优化图像采集设置,以最大限度地提高机器的缺陷和特征差异化能力。此外,TENCOR SL 515通过其现有API和接口的综合库,易于与现有基础架构、软件和过程控制工具集成。该工具具有快速的响应时间,并确保严格的过程控制,使其成为大容量半导体制造的理想选择。KLA/TENCOR SL 515 Mask&Wafer Inspection Asset是一种可靠而强大的保护和晶片级缺陷检测解决方桉。