二手 KLA / TENCOR SLF27 #9298724 待售

KLA/TENCOR SLF27是一种掩模和晶片检查设备，使用创新的专有扫描技术扫描晶片是否有任何异常或不规则性。它专门设计用于检测掩模和晶圆表面上的任何物理缺陷。该系统利用专门的光学检查技术，密切分析晶片或掩模的任何潜在问题。KLA SLF27采用溷合光学扫描技术，将两台配有专有光学器件的相机结合起来，收集每一个缺陷的图像。该装置高度敏感，可进行精确、高效的检查和查明缺陷覆盖范围。这种高效的检测使计算机能够快速识别任何异常或缺陷,并以易于读取的格式显示。TENCOR SLF27能够快速扫描掩模或晶片的表面,以检测其与以前确定的规格之间的任何差异。平均模式检测周期时间为0.2-0.4秒，面罩检测周期时间为0.1-0.2秒，机器可以快速识别出任何与规格的错误或偏差，集成的直观软件使得简单全面的控制容易准确分析数据。此外,SLF27工具还具有提高产量的特殊功能。拥有7英寸触摸屏显示屏，用户可以轻松扫描和检查，精确度出众。溷合OET（Optical Efficiency Tweezers）允许用户以其10微米分辨率精确测量每一个有缺陷的元件。该资产还允许用户使用高分辨率成像技术来测量缺陷大小。KLA/TENCOR SLF27是一种高效、先进的面膜晶片检验模型，具有先进的特点，有助于提高产量和优化检验。溷合OET和直观的软件使其非常有效,具有快速的扫描和分析时间,有助于提高产量和降低成本。该设备高度可靠，具有精确的光学和高分辨率成像技术，能够准确准确地检测有缺陷的元件。KLA SLF27系统是任何半导体公司确保优质产品的宝贵工具。