二手 KLA / TENCOR SP1 Classic #169068 待售

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ID: 169068
晶圆大小: 8" - 12"
优质的: 1998
Wafer surface analysis system, 8" and 12" Specifications: Wafer size: 8" open cassette and 12" FOUP configuration Provides sensitivity, repeatability, surface quality measurements and throughput capabilities required for 0.18µm technologies 0.08um Defect Sensitivity on Well-Polished Silicon 95% Capture Defect Map & Histogram with Zoom Micro View Measurement Capability Up to 150 Wafers Per Hour throughput on 200mm Wafers Illumination Source: 30 mW Argon-Ion Laser, 488nm Wavelength Version 3.8 Software Operator Interface: MS Windows NT 4.0 OS TFT Flat Panel Display Parallel Printer Port Operations Manual for KLA SP1 Classic 1998 vintage.
KLA/TENCOR SP1 Classic是一种全自动的掩模和晶圆检测设备,旨在提供更高的吞吐量、更高的产量和改进的缺陷检测。该系统具有先进的探测器、光学和复杂的算法,使其能够实现高性能。每个单元都配有红外照相机和带有变焦镜头的LED光源等配件,可配置不同规格。KLA SP1 Classic包括具有集成四层彩色滤镜的高分辨率CCD传感器。这使机器能够检测垂直和水平缺陷,并以极高的精度识别缺陷的确切位置。它还具有高速自动对焦工具,使资产能够检测到甚至与所需模式或规格有丝毫偏差。TENCOR SP 1 CLASSIC有几种不同的用户模式,包括手动模式和交互模式,让用户能够分析和检查各种类型的缺陷类型。该模型还带有预定义的分析例程库,包括高质量的缺陷检测例程,可用于快速评估和分析掩模缺陷晶片。SP1 Classic设计用于在无灰尘的环境中运行,并具有很小的占地空间,使其能够容纳在狭窄的空间中。它配备了内置的热聚焦设备(TFS),可以让系统自动调整焦点,保持图像质量一致。该单元还包括一个增强型成像机(EIS),显着提高图像的分辨率和准确性。该工具高效可靠,每晶圆成本低,停机时间短。自动缺陷审阅过程允许用户快速审阅和拒绝蒙版缺陷,从而确保没有一个缺陷进入制造线。KLA/TENCOR SP 1 CLASSIC还提供了全面的追踪性,允许用户跟踪晶圆和掩码数据,以提供所执行测试和检测到的缺陷的详细记录。总体而言,KLA SP 1 CLASSIC是一种出色的掩模和晶圆检验资产,可用于帮助提高生产环境中的产量和质量。利用先进的探测器和光学、复杂的算法和自动化过程,该模型为晶圆测试和检验提供了一个经济高效和可靠的解决方桉。
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