二手 KLA / TENCOR SP1-DLS #9099729 待售

KLA/TENCOR SP1-DLS Mask&Wafer Inspection Equipment是一种自动化成像系统,旨在检测半导体晶片以及集成电路制造中使用的Mask和薄膜中的缺陷。该装置采用了各种先进技术，如亮场、暗场和散射场成像，以及一系列专门的光学滤光片，使其能够检查晶圆表面和薄膜厚度，分辨率仅为0.8 μ米。该机由一个包含一个或多个晶圆检测口的检测模、一系列照明灯和光学器件以及一套相关的图像采集和分析软件组成。检测端口是一个模块化的光学平台，可以根据客户的要求和应用进行配置。它具有一个可移动的x-y级、一个20倍到1000倍的可变焦光学工具和一个环形的亮场照明资产，使模型能够成像甚至最小的特征。KLA SP1 DLS设备使用了一系列专门的光学元件,使系统能够针对不同类型的缺陷检测进行优化。其中包括使用两个摄像机捕获晶片2D图像的透射系统光学（Transmissive Systems Optics，简称TSO），以及为检测蒙版和胶片表面缺陷而优化的反射系统光学（Reflective Systems Optics，简称RSO）。TENCOR SP 1-DLS单元采用高级图像分析软件,简化了缺陷检测过程.利用复杂的算法，机器能够检测到光场和暗场图像中存在缺陷。该工具甚至可以检测肉眼看不见的缺陷，如颗粒和烧伤的斑点。此外,资产具有很高的准确性和可重复性,这意味着客户可以确信它能够准确检测产品中的任何缺陷。最后,SP 1-DLS Mask&Wafer Inspection Model是一种先进的自动化成像设备,旨在检测半导体晶片、Mask和薄膜中最小的缺陷。它采用了一系列先进技术，包括透射和反射系统光学，以及一套复杂的图像分析软件。