二手 KLA / TENCOR SP1-TBI SURFSCAN #9097041 待售

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ID: 9097041
Unpatterned surface inspection system Puck / vacuum handling Wafer measurement module Triple beam illumination (TBI) Normal illumination: 0.079 Defect sensitivity Oblique illumination: 0.060 Defect sensitivity Haze sensitivity: 0.005 ppm Ar Ion laser: 488 nm Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Operator interface Microsoft windows NT 4.0 operating system Security, logging and native networking as provided by Windows NT Interactive pointing device Key pad controls Parallel printer port Defect map Histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Manual.
KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN是一种设计用于微电子生产的最先进的掩模和晶圆检测设备。这种半导体生产系统提供全面的表面缺陷检测功能,使用户能够识别蒙版和晶片上的最小缺陷,其尺寸可降至0.02微米。KLA SP1-TBI SURFSCAN由几个单元系统组成,包括掩模检查组和晶圆检查组。MIU提供了先进的缺陷检测功能,是大批量生产的绝佳选择。该单元允许在Mask模式上进行高度精确的亚微米缺陷检测,精度高达0.3微米。WIU提供了其他功能,允许对线键和其他外部缺陷进行缺陷检查。除了先进的缺陷检测功能外,TENCOR SP1-TBI SURFSCAN还提供多种成像选项,使其能够检查各种不同的功能。其中包括特征大小、长宽比和线宽/间距。它还提供独特的角度补偿和位置跟踪功能,使其能够准确快速地检测传统光学系统难以检测到的缺陷。SP1-TBI SURFSCAN还能够提供高保真成像解决方桉。这利用了先进的算法,可以呈现文本,图像,和模式上的面具有很大的细节程度。此外,该单元允许在3D晶片上进行快速、准确的测量,并具有高分辨率的模内特性,为生产线自动化提供可靠的结果。同时,这台机器提供了强大的实时缺陷分析功能,用户可以选择即时保存和分析结果。总体而言,KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN是一种先进的生产工具,使用户能够准确识别口罩和晶片上的缺陷。它提供精确的测量和高保真成像,具有高度的细节和质量。此外,它还具有可靠的缺陷检测功能,可帮助用户检测最小缺陷(最小缺陷可达0.02微米)。KLA SP1-TBI SURFSCAN具有灵活的成像选项和强大的缺陷分析功能,是半导体生产线的理想选择。
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