二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipment （KLA/TENCOR晶片和晶片检测设备）是一种先进的晶片和mask检测系统,专为高速光掩模生产而设计。该机组在一个平台上使用两个独立的检测通道，提供高达12 MHz的优质晶片和掩模检测。KLA SP1T-BI设计用于对6英寸或8英寸光掩模晶片的复杂模式进行缺陷表征和模式验证。该机配有高分辨率相机和光学器件，用于捕捉和分析光掩模晶片上的图样。刀具还具有舞台运动资产,它允许对蒙版表面进行XY扫描和两轴倾斜舞台。该模型还能够检测各种类型的缺陷，包括：小螺距线缺陷、过度蚀刻缺陷、错误击打、错误匹配、层错误对齐、无图案棋盘图样、蚀刻缺陷等。设备能够准确检测相关晶片缺陷，识别晶片形状，以识别被检测者。利用HPC（高性能计算）系统，TENCOR SP1 TBI单元可以同时处理多个图像，快速识别任何光刻误差。高速扫描和检查由快速扫描映射和数据处理提供动力。该机器具有自动缺陷分类和分级过程,可快速生成详细报告。TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Tool是高端Mask生产的理想解决方桉。与任何手动扫描过程相比,它提供了更高的可靠性、准确性和高速检查,同时提高了吞吐量。该资产具有用户友好界面，便于操作员使用。此外，该模型还利用复杂的软件跟踪、存储、分类和分析流程批次。这些设备为各类步骤和审查操作提供了详细的报告，以实现有效的可追踪性。KLA/TENCOR SP1 TBI提供卓越的整体性能,具有卓越的精确度和无与伦比的速度。该系统满足最苛刻的生产工艺的需要，以确保可靠的成本效益生产。