二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 待售
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已售出
ID: 9037347
晶圆大小: 8" and 12"
优质的: 2005
Single open cassette type
Vaccum chuck type
Software 4.1 Ver.
Particle counter, 8" and 12"
Single open cassette
Vacuum chuck type
Software: version 4.1
Laser and laser power supply
Triple beam illumination (TBI)
Wafer type: bare and film
Normal illumination: 0.079um defect sensitivity, oblique illumination, 0.06um defect sensitivity
0.005 ppm Haze sensitivity
Ar Ion laser (488nm)
RTDC (Real time defect classification)
Measurement chamber with ULPA filter and blower unit
Security, Logging and Native Networking
Key pad controls, TFT flat panel display
Parallel printer port
Defect map and histogram with zoom
Micro view measurement capability
Blower box
Currently de-installed
2005 vintage.
KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipment (KLA/TENCOR晶片和晶片检测设备)是一种先进的晶片和mask检测系统,专为高速光掩模生产而设计。该机组在一个平台上使用两个独立的检测通道,提供高达12 MHz的优质晶片和掩模检测。KLA SP1T-BI设计用于对6英寸或8英寸光掩模晶片的复杂模式进行缺陷表征和模式验证。该机配有高分辨率相机和光学器件,用于捕捉和分析光掩模晶片上的图样。刀具还具有舞台运动资产,它允许对蒙版表面进行XY扫描和两轴倾斜舞台。该模型还能够检测各种类型的缺陷,包括:小螺距线缺陷、过度蚀刻缺陷、错误击打、错误匹配、层错误对齐、无图案棋盘图样、蚀刻缺陷等。设备能够准确检测相关晶片缺陷,识别晶片形状,以识别被检测者。利用HPC(高性能计算)系统,TENCOR SP1 TBI单元可以同时处理多个图像,快速识别任何光刻误差。高速扫描和检查由快速扫描映射和数据处理提供动力。该机器具有自动缺陷分类和分级过程,可快速生成详细报告。TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Tool是高端Mask生产的理想解决方桉。与任何手动扫描过程相比,它提供了更高的可靠性、准确性和高速检查,同时提高了吞吐量。该资产具有用户友好界面,便于操作员使用。此外,该模型还利用复杂的软件跟踪、存储、分类和分析流程批次。这些设备为各类步骤和审查操作提供了详细的报告,以实现有效的可追踪性。KLA/TENCOR SP1 TBI提供卓越的整体性能,具有卓越的精确度和无与伦比的速度。该系统满足最苛刻的生产工艺的需要,以确保可靠的成本效益生产。
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