二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9248729 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipment是一种自动化的精密工具,用于半导体晶片在制造过程中的质量控制和缺陷分析。该系统使操作员能够快速准确地分析晶片表面的缺陷、杂质、污染或其他不规则性。KLA SP1T-BI提供高分辨率成像、强大的分析和灵活的用户界面,以及许多分析工具和强大的成像工作流。该单元包括先进的硬件和软件,可实现高吞吐量、极快的图像捕获和精确的模式识别。它包含：明亮、清晰的图像检视机；使样品快速精确对准的光学级；两个全场摄像机，以高分辨率和多重设置捕捉图像；以及PC和工具之间的接口,以便提供可视化、存储和数据管理。资产还包括一系列分析工具。它提供了三个主要缺陷类别：异物颗粒、一般缺陷和异常特征。此外,操作员还可以访问三种平面映射技术：多角度照明暗场（MIDF）、正常照明暗场（NIDF）和相移缺陷检测（PSDD）。这允许组成和/或结构像素级缺陷识别的阵列。分析工具提供了一个直观的用户界面来结合自动和手动分析。自动取样是TENCOR SP1 TBI的另一个方面。采样可以由用户根据应用程序和站点的特定要求进行配置。它以每小时5,000晶圆的速度自动对准和获取图像,并能够检测到6nm以下的缺陷。此外,它还可以去除损坏严重的晶片,实际上消除了被拒绝的晶片。KLA/TENCOR SP1 TBI还提供了多个数据管理系统的接口,使操作员能够高效地传输和共享关键生产信息。这有助于确保生产线中晶片的质量控制。综上所述，KLA SP1-TBI Mask&Wafer检验模型为半导体晶圆检验提供了一种用途广泛、成本效益高的工具。它提供精确的成像和缺陷检测能力，并结合自动取样；它的直观用户界面为数据系统提供了一系列分析工具和接口-所有这些都是为了在制造过程中可靠地保证晶片的质量控制。