二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9254918 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI是一种掩模和晶片检测设备，将高分辨率成像与复杂的模式识别算法相结合，检测半导体晶片和标线上的缺陷。它提供了每小时200晶圆（WPH）的无与伦比的吞吐量,顶级精度为4 nm。该系统采用0.75-1.0 µm高分辨率激光成像装置，用于离线和在线应用。它专为缺陷检测和审查而设计,允许操作员快速与同事共享大型映像文件以增强协作。KLA SP1T-BI可确保跨多种功能大小的一致、可靠的缺陷检测。晶圆成像使用深紫外线激光或常规光源，确保对掩模和其他材料进行成像，而无需额外的光学器件或曝光系统。该机还配备了先进的缺陷分类能力，使用户可以将审查重点放在感兴趣的缺陷上，同时隔离常规缺陷。该工具包括专用的模式匹配软件,用于检测关键缺陷特征,包括小至4nm的纳米结构和特征,并具有卓越的速度和高精度。模式匹配算法使用一组专有的模板和参数，使用差分边增强来识别各种缺陷。TENCOR SP1 TBI还具有高级缺陷检测、分类和分析功能。这些包括自动缺陷收集、定量缺陷计量、数据可视化和报告。资产包括自适应数据后处理工具，使用户能够细化检查结果，快速识别、分类和报告缺陷。直观的用户界面允许操作员为特定的应用程序自定义模型。用户友好的触摸面板界面提供了设备性能的实时反馈,可以轻松调整设置并快速诊断任何潜在问题。TENCOR SP1 TBI提供业界最先进的掩模和晶圆检测系统。该设备专为大批量生产线而设计,可确保快速、精确、准确的缺陷检测,确保生产线的产量始终保持较高水平。