二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9257956 待售

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KLA / TENCOR SP1-TBI
已售出
製造商
KLA / TENCOR
模型
SP1-TBI
ID: 9257956
Surface inspection system Flat panel display, 22" Computer Operating system: Windows NT Argon ion laser: 30 mw, 488 nm Light tower SECS / HSMS Interface Micron view measurement capability Defect map and histogram with zoom CD-ROM Drive Dual Hard Disk Drive (HDD) Handler, 8": (2) Sender stations: SMIF Inside load port (2) Receiver stations: Open cassette Dual arm vacuum handler robot Robot arm puck KEYENCE Ionizer bar FFU With fault alarm function.
KLA/TENCOR SP1-TBI是一种晶圆和掩模检测设备,为基于光学的自动化过程监测和缺陷检测提供了可靠且经济高效的方法。该系统非常适合先进半导体制造环境中的inoNode过程控制,适合各种设备类型。KLA SP1T-BI是为满足面罩和晶圆检验的要求而设计的。它配备了4K高分辨率光学显微镜和专有的基于光学的控制系统,用于先进的成像和缺陷分析。此外,该单元允许自动生成高分辨率图像,并运行全面的自动对焦算法,以便以极快的扫描速率优化图像分辨率。TENCOR SP1 TBI集成了先进的图像处理算法,使其能够检测多种缺陷类型,包括模式缺陷、制造缺陷等。此外,该机器能够识别各种介电层,使其适合先进的过程监测。此外,该工具还支持选择性蚀刻检查和测量各种工艺步骤的过量/过量暴露。TENCOR SP1-TBI的软件组件提供了用户友好的界面和强大的数据分析功能。它具有多种成像模式,能够以快速的扫描速度实现精确的图像捕获,并支持各种处理技术。资产还具有实时缺陷跟踪模式和自动缺陷分类。此外,软件还可以为各层和结构生成详细的电子性能图(EPM).SP1-TBI还包括闭环控制系统的过程控制选项,允许在晶片和口罩制造过程中进行调整和校正。这些过程控制选项还允许与制造过程的其他部分集成和数据共享。总体而言,SP1T-BI是基于光学的过程监视和缺陷检测的理想解决方桉。它具有很高的可靠性和成本效益,并且为广泛的晶圆和掩模检查提供了一个全面和用户友好的平台。KLA SP1-TBI具有先进的成像和缺陷检测功能,以及强大的软件和过程控制选项,是先进半导体制造的完美工具。
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