二手 KLA / TENCOR SP1 #87226 待售
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已售出
ID: 87226
Classic wafer surface inspection system, 12"
Cassette to Cassette
Software Version: 3.30.1829
Power Requirements: 208/240 V, 24.0 A, 50/60 Hz, 1 Phase
Argon Ion Laser: 488nm
Measurement Chamber with ULPA Filter & Blower Unit
Operator Interface MS Windows NT 4.0
Interactive Pointing Device
Keypad Controls
TFT Flat Panel Display
Parallel Printer Port
Defect Map and Histogram with Zoom Micro View Measurement Capability
X-Y Coordinates
0.18 um Process Technologies & Beyond
0.08 um Defect Sensitivity on Well-Polished Silicon
95% Capture
Up to 150 Wafers per Hour Throughput on 12" Wafers
Brooks Automation Fixload
12" Load Port for FOUPS
Working condition
1997 vintage.
KLA/TENCOR SP1是一种高精度、自动化的掩模和晶圆检测设备。KLA SP1系统设计用于检测、分析和报告掩模和晶片表面上存在的任何缺陷。该单元结合了前沿视觉技术以及先进的模式匹配和成像技术，以确保高精度、可重复和可靠的检查结果。它提供了一整套功能：关键缺陷检测、空间分析、图像存档和高级缺陷分类。TENCOR SP 1机利用UV照明和双波长共聚焦显微镜等先进光学检测技术，对掩模和晶片表面的缺陷进行精确检测和分析。该工具可捕获多达8个图像帧,分辨率高达300 nm。该资产还设有六个多光谱观看通道的高清相机。该模型提供了四种截然不同的缺陷模式来检查不同类型的缺陷，包括"视觉"（表面级缺陷如颠簸、敲击、起泡等）、"结构"（地下缺陷如空隙、分层等）、"灾难性"（造成大规模的过程异常）和"预测"（使用户能够预见未来的潜在缺陷）。KLA SP 1包括多种指标，如缺陷大小、形状和位置。自动缺陷分类器使设备能够区分不同类型的缺陷,从而确保仅报告有效（非假阳性）缺陷。这有助于提高准确性和减少误报。最后,KLA/TENCOR SP 1系统支持高级报告功能。该单元使用强大的分析生成图形和其他可用于改进生产过程的汇总统计信息。可以定制报告以满足特定需求,从而使制造商能够深入了解重要的流程性能指标。综上所述,SP1是一种高级掩码和晶圆检测机,它提供了一套全面的功能。它利用前沿光学和缺陷分类技术实现高精度、可重复和可靠的缺陷检测、分析和报告。该工具可以量身定制,以满足任何生产过程的特定需求,帮助制造商深入了解其操作。
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