二手 KLA / TENCOR STARlight 301 #9049801 待售

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ID: 9049801
优质的: 1997
Automatic photomask inspection system 208 VAC, 50/60 Hz, 30-39 Amps 1997 vintage.
KLA/TENCOR STARlight 301是专门为满足半导体制造商严格的精度要求而设计的精密的掩模和晶圆检测设备。该系统包括一系列光学检测、实时编辑、审阅、缺陷分析和报告工具,可帮助确保遵守最严格的流程控制。KLA STARlight 301提供了无与伦比的准确性和性能,用于检查有图样的基板。其先进的光学子系统利用优越的光学元件和高分辨率成像单元来捕获和数字显示样品的高质量图像。然后可以准确分析这些图像是否存在缺陷,从而使制造商有信心获得最佳产量。机器的实时编辑功能允许用户即时检查基板的每个区域。高级缺陷分析工具可用于识别和分析可能存在的任何潜在缺陷,如晶体生长或粘附问题。报告功能使监控和跟踪过程中的结果、跟踪缺陷级别以及报告潜在问题变得容易。TENCOR STARlight 301还能够执行深度扫描,这是一个旨在检测可能埋在材料或基板深处的缺陷的过程。这在半导体晶片的检测中特别有用,半导体晶片由于其大小或位置可能难以检测到缺陷。STARlight 301易于扩展,能够在一次运行中同时检查数百个晶圆或多个基板。它非常高效,可提供顶级吞吐量,同时仍能产生准确的结果。此外,该工具还具有卓越的客户服务和坚定不移的可靠性。总之,KLA/TENCOR STARlight 301为基材和晶片的检测提供了优越的成像和分析能力。它提供了满足半导体制造商严格要求所必需的准确性、性能和缺陷分析工具。其可扩展、高效的设计确保了快速的吞吐量和可靠的结果,并辅以一流的客户服务和不懈的质量保证。
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