二手 KLA / TENCOR Surfscan SP1 Classic #9147123 待售

KLA/TENCOR SP1 Classic Mask and Wafer Inspection设备是业界领先的光学检测和评审系统。该平台用于对先进的光刻光栅、光掩模、晶片和其他图样材料进行精确检查,从而实现了对器件和迭层临界尺寸（CD）以及设计的经济高效分析和优化。KLA SP1 Classic设备配备了先进的侧向散射成像技术和各种自动掩模和晶圆检测系统,可提供干净、可重复的结果,满足越来越严格的产量要求。TENCOR SP 1 CLASSIC Mask and Wafer Inspection machine提供了丰富的模式检查和评审功能。所有测量和结果均基于最高的测量精度。先进的成像和检查技术结合了快速、自动化的粒子和缺陷检测、特征边缘分析和透明薄膜厚度测量-所有这些都是在符合人体工程学、用户友好的平台中实现的。TENCOR SP1 Classic工具集成了KLA专利的自动粒子检测资产，该资产旨在快速、经济高效地识别和测量一系列晶圆上的粒子。先进的算法可以快速分析低到中度的曝光和体积缺陷,而模型的自校准高分辨率光学器件可以提高吞吐量和准确性。为了更好地识别模式,各种自动掩码检查系统共享一个硬件,从而实现跨多种技术的一致测量和检查。SP1 Classic Mask和Wafer Inspection设备作为精密分析平台，旨在支持单个平台中的多种检测工具，节省成本和时间。此功能还允许方便的模式识别和增强的缺陷识别。还提供了多种图像和分析方法,包括边缘测量、有效检查、迭加观察、逐层查看、平面像素查看、横截面和倾斜查看,以进行优化查看。KLA/TENCOR SP 1 CLASSIC平台还包括一套综合的分析和报告能力，用于精确的模块级别和晶圆级别的产量优化。自动材料扫描、标记、校准和报告都可以通过系统的直观软件实现。智能数据存储可实现最佳的容量利用率和更快的分析,而批分析和共享可降低与手动数据输入相关的风险和停机时间。SP 1 CLASSIC Mask and Wafer Inspection Unit是在半导体、光电子、光掩码和纳米技术行业中从事尖端工艺节点工作的工程团队必不可少的工具。通过此平台的精确检查和始终如一的准确结果,用户将受益于产品开发中提高的总体产率和成本节约。