二手 KLA / TENCOR Teron 610 #9378999 待售

KLA/TENCOR Teron 610是一种掩模和晶片检测设备，设计用于对先进的光掩模图样和晶片进行精确的缺陷检测和分析。它利用专有体系结构实现高度敏感的边缘和阵列缺陷检测,与公差、工艺参数和几何形状无关。该系统利用先进的光学和闪烁辐射源，提供高灵敏度的0.35微米成像分辨率。许多成像模式，如场对准、快速扫描和着色校正，使不同类型的掩模和晶片的过程均匀性和模式保真度得到提高。另外，KLA Teron 610还采用了独特的激光扫描技术，用于缺陷剖面优化和晶圆模式识别。TENCOR Teron 610以至少0检查各种光掩模和晶圆音符。250微米的音高。每个晶片的最大面积检查直径为12英寸,而口罩的最大可用面积为28英寸。通过自动掩模和晶圆处理机优化了设备的吞吐量。Teron 610还提供了一套广泛的辅助CAD工具、舞台检查、三维图像分析和缺陷审查算法,以及用于检测错位针脚、桥梁和其他细微缺陷的几何检查算法。KLA/TENCOR Teron 610的用户界面设计直观，便于设置、高效操作和批处理。交互式用户界面还提供复杂的功能,如缺陷审查、统计计算和报告,以及检查结果的比较。该工具还带有自动审查和模式识别模块，有助于识别从一个晶圆到另一个晶圆的重复缺陷。为了提高数据安全性,KLA Teron 610具有可选的网络接口,可让运营商远程控制资产的操作。该型号还支持多种第三方晶圆处理系统。对于任何需要检测和分析光掩模模式和晶片的环境，它都是一种成本效益高、可靠的检查设备。