二手 KLA / TENCOR UVision 5 #9300220 待售

KLA/TENCOR UVision 5是半导体制造过程中使用的一种前沿掩模和晶圆检测工具。它使用紫外线、光学和核辐射源的组合来识别面膜和晶片层中的缺陷。这种高分辨率工具的设计目的是在比人的眼睛能辨别出的小水平上检测缺陷，从而确保在生产过程中达到最高水平的质量保证。该设备具有坚固的平台,可提供可靠和准确的结果。平面内和平面外光学计量学系统用于检测面膜结构或晶片薄膜中的深层地下缺陷和其他模式。然后通过使用紫外线、光学和核辐射源识别缺陷的多种图像处理工具对这些图像进行分析。KLA UVision 5采用了先进的显微镜和图像处理算法，使得能够对诸如进给通量、蚀刻通量以及通过缺陷等样本进行深入分析。该系统可准确监控层间距,承受颗粒应力,有助于缺陷鉴定.此外,TENCOR UVision 5还包括一个无光功能,用于在黑暗中检查光刻胶掩模开口（通常显得太小或不存在）。该单元也足够强大，可以处理3 D半导体检查，允许对需要多个视角的图样进行更好的深入检查和分析。这有助于确保制造过程尽可能优化和高效。强大的检测能力和高精度的图像处理工具相结合，使UVision 5成为一台功能强大、可靠的半导体生产面膜和晶圆检测机。其先进的算法能够快速准确地识别和分类缺陷，从而能够及时解决问题，保持质量生产。