二手 LEICA INS 2000 #293680723 待售

LEICA INS 2000
製造商
LEICA
模型
INS 2000
ID: 293680723
晶圆大小: 8"
Review station, 8".
LEICA INS 2000是用于掩模和晶圆检测的先进成像技术。这台仪器提供了纳米级面膜和晶片的高分辨率成像,使用户可以精确检查和测量复杂的特征。INS 2000有2个并排立体声磁头,每个磁头可提供800万像素的影像。该仪器在高对比度液晶显示器上显示图像,并利用复杂的软件工具进行图像处理和分析。LEICA INS 2000提供精确、先进的成像功能,具有高达0.35 µm的成像分辨率、自动图像缝合和合并,以及专有的最大图像对比度纳米聚焦功能。该成像采用高分辨率激光干涉仪和精确的Z轴级系统以及一个正在申请专利的像素级配准光学器件实现。自动进行图像缝合和合并,只需一次扫描即可扫描大型基板。这些功能为掩模和晶圆检查提供了最佳的图像。对于掩模检查,INS 2000能够检查高分辨率、复杂的图样,并具有最小的迭加错配。这消除了物理显微镜的需要,这可能是耗时和劳动密集型的。具有复杂算法的独特模式识别工具可以识别模式缺陷并快速识别不一致的过程。此外,自动图像缝合和合并允许用户准确测量配准和迭加偏差。此工具支持1D和2D参数分析,并提供可选的焦点检索选项,以实现最佳图像对比度。LEICA INS 2000是晶圆检测的宝贵工具。它可以快速以高分辨率扫描整个晶片,以检测颗粒污染物。它还使用户能够快速识别和量化晶片表面的缺陷,如划痕、芯片和蚀刻相关缺陷。此外,它使用专利技术检测金属泄漏、空隙和其他污染物。这些功能使用户可以在几分钟内获得晶圆的全貌,从而节省时间和金钱。INS 2000是一种用于掩模和晶圆检测的强大仪器。它提供高分辨率成像以及自动图像缝合和合并,使用户能够快速准确地检查样品。其精密的成像工具确保了最佳的图像对比度和参数分析,而其先进的粒子检测算法让用户能够快速识别和量化缺陷。对于任何需要精确成像和分析的应用程序,LEICA INS 2000都是非常宝贵的工具。
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