二手 LEICA INS 2000 #9378304 待售

LEICA INS 2000是一种面罩和晶圆检验设备，旨在减少上市时间，提高产量。它包括一个自动光学检查系统（AOI），能够结合几个特点检查掩模的所有层。该装置采用自动对准工艺，使用先进的高分辨率数码相机在掩模和晶圆级精确对准光刻掩模，以实现精确和可重复的对准性能。这样可确保对蒙版的所有层进行一致的检查结果。该机还提供了一套严格而全面的智能缺陷检测算法，可以检测从颗粒缺陷、晶片到边缘缺陷、桥梁和剪切等多种掩模缺陷。这些算法能够检测和标记光刻过程遗漏的任何缺陷。这样可以确保用户在释放口罩进行制造之前能够快速识别、评估和解决此类缺陷。此外,INS 2000能够在一次运行中分析多个掩码之间的缺陷,从而使用户能够快速识别其掩码中的潜在缺陷。该工具还采用了3D渲染功能，提供了更详细的蒙版和晶圆缺陷的微观透视，允许用户清晰可视化缺陷，并相应快速调整检查参数。此外,LEICA INS 2000能够在几秒钟内生成缺陷摘要。这对于完成掩码批准过程特别有用。使用此功能,用户可以快速生成检测到的异常列表并将其呈现给工艺工程师,以便调整其工艺参数或进一步优化其修复工作流程。最后，INS 2000具有所见即所得的WYSIWYG（What You See Is You You Get）功能，允许用户在屏幕上即时看到他们的检查结果。此功能对于提供流程优化的快速反馈循环特别有用。总体而言,LEICA INS 2000是一种综合性的掩模和晶圆检验资产,旨在帮助用户缩短上市时间并提高产量。凭借其先进的AOI功能、直观的掩码分析和所见即所得的功能，INS 2000是需要精确准确检测性能的用户的理想选择。