二手 LEICA INS 3000 DUV #9265730 待售
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ID: 9265730
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Macro defect inspection system, 8"
Loading configuration: ASYST SMIF
(2) Cassette stations
Hard disk, 3.5"
Microscope objectives: 2.5x, 5x, 20x, 100x, 150x, 250x
Option:
Bright and dark field illumination
Damaged parts:
Workstation
Diaphragm module
Pre-aligner with tumble and stage unit
Includes:
Clean room manuals
CD-ROM Manuals
Calibration standards
UV Illumination
Confocal
Signal light tower
Operation system: Windows NT 4.0
Power supply: 208 V, 60 Hz
2000 vintage.
LEICA INS 3000 DUV是为先进晶圆制造应用而设计的最先进的掩模和晶圆检测设备。该系统利用高分辨率成像单元、超稳定隔振平台和先进的工作流软件套件,精确测量可影响晶体管、电阻等集成电路性能的缺陷。利用先进的技术,该机器能够识别和测量晶圆制造过程中的缺陷,使工程师能够详细了解材料的结构完整性和性能。INS 3000 DUV利用超稳定的隔振平台,保证了检测高度局部化缺陷的理想环境。借助这一特殊平台,该工具提供了卓越的成像稳定性,能够进行更精确的测量。此外,超低的照明水平允许卓越的对比度和灵敏度在不规则,以及亚微米分辨率。资产复杂的工作流软件套件有助于数据采集和缺陷分析。该软件为用户提供了轻松访问模式和缺陷的高分辨率图像,结合各种算法进行缺陷评估和分类。此外,该软件还使用户能够存储大尺寸的晶圆数据并记录可追踪性信息。LEICA INS 3000 DUV是一款功能强大、可靠的用于半导体行业最苛刻应用的掩模和晶圆检测模型。设备的精密监控和分析能力,加上其卓越的成像技术,有助于实现缺陷检测的最高精度。该系统的隔振平台和高级工作流软件提供了一个安全可靠的工具,可帮助降低成本、提高产量并确保产品质量。
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