二手 LEICA INS 3000 #9148695 待售

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製造商
LEICA
模型
INS 3000
ID: 9148695
晶圆大小: 8"
Wafer defect inspection system, 8" Open cassette 150x / 0.95 APO 100x / 0.90 APO 50x / 0.85 APO 10x / 0.30 HCPL 5x / 0.12 PL 5x / 0.90 PL.
LEICA INS 3000是一种功能强大的面罩和晶片检测设备,设计用于晶圆和标线制造。它使用先进的成像技术和主动的数学算法来检测晶圆和标线中的细微缺陷。该系统包括一个高度敏感的广域彩色成像单元和一个专利的高频算法,用于检测晶圆和标线上的小粒子的外观。该成像机在晶片表面上的每个像素处捕获晶片的高质量、宽色域的彩色图像。通过使用先进的暗场光学器件,使工具能够检测振幅和相位缺陷,晶圆上可能存在的任何污染物都变得更加明显。成像资产还具有一个正在申请专利的主动测量结构,该结构允许精确的像素配准,并确保图像不会失真和模煳。通过此功能,模型可确保捕获的图像具有最高的分辨率和清晰度。LEICA INS-3000是为提高效率和准确性而设计的。它具有几个自动检查周期,可根据客户的特定需求定制检查。这确保了晶圆和标线检查任务的重复和准确结果。该设备还配备了高级流程控制(APC)功能,使系统能够配置为以高精度和高精度诊断和纠正检测到的缺陷。INS 3000还集成了晶圆边缘控制技术。此功能可确保晶片的周长与所讨论的标线图桉正确、准确地对齐。此外,该装置采用双步骤工艺控制。这确保了即使是最轻微的异常也能比以往任何时候都以更高的速度和精度被检测和隔离。该机器具有熟练、直观的用户界面,便于操作和持续支持。通过一系列直观的功能和特点,操作员能够准确有效地管理检查任务,并实时分析数据和监控进度。该工具还具有内置诊断程序,可在出现问题时提供故障排除信息。综上所述,INS-3000是一个强大的面膜和晶片检测资产,设计用于晶圆和标线制造。它能够准确地检测和隔离行业领先的细微缺陷。该模型提供了出色的功能,包括自动检查周期、APC功能、晶圆边缘控制技术和双步骤过程控制。它还提供了一个直观的用户界面,便于灵活使用,并具有故障排除和诊断功能。
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