二手 LEICA INS 3300 #9285724 待售

製造商
LEICA
模型
INS 3300
ID: 9285724
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Wafer defect inspection system, 12" (2) Loadports Inspection unit Missing parts: Robot power cable Main computer 2004 vintage.
LEICA INS 3300是一种最先进的掩模和晶片检测设备,设计用于在小型化电子元件的测试和检查中提供高分辨率、精确的成像性能。它采用先进的光学设计,根据晶圆和掩模检查的高性能成像需要量身定制。高分辨率光学、多曝光成像和优化软件的结合提供了卓越的成像性能,提供了最大的准确性和较低的总拥有成本。该系统包括多个探测器,如电荷耦合器件(CCD),或互补金属氧化物半导体(CMOS)成像仪,提供高分辨率成像性能。可用的成像镜头范围包括光圈范围为f/2.8-5.0的4倍物镜和光圈范围为f/8至f/13的10倍物镜。该设备采用行业标准的epi-fluorescence配置,配备V-mount成像室和强大的控制平台,包括主控制模块、控制器单元和成像控制软件。LEICA INS3300提供了许多成像和检查功能。这些包括特征测量、图像捕捉、模式识别、晶圆对准、光谱分析、模式比较、缺陷检测和缺陷分析。此外,该机包括专门为半导体器件检测而设计的算法,能够更精确地识别掩模、晶圆和封装制造过程中的缺陷。该工具还具有自动校准程序和自动缺陷识别功能,可提高检测缺陷的效率和准确性。INS 3300还非常适合用于半导体计量应用,具有自动特征测量功能,以及针对线宽测量、以过程为中心的测量和统计测量优化的算法。该资产专为卓越的计量性能而设计,还配备了快速数据分析、可视化和报告工具。INS3300以紧凑的外形提供高分辨率性能,是各种半导体检测和计量应用的理想解决方桉。该模型提供了一整套功能,旨在最大限度地提高性能,并优化了软件以改进分析和报告,非常适合那些在半导体器件的检查和计量方面需要无与伦比的性能的用户。
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