二手 LEICA / VISTEC 200 #9092984 待售

LEICA/VISTEC 200是为半导体制造而设计的先进的掩模和晶圆检测设备。该系统使用先进的光学成像技术检查掩模和晶片是否有缺陷和污染。LEICA 200非常适合用于晶片和非晶片设备的生产、研发、诊断和故障分析。该单元由高精度的可变放大显微镜组成，用于获取掩模或晶片的图像。使用8倍物镜快速准确地获取图像。此外,可以将图像放大到500倍,以显示否则无法检测到的详细信息。VISTEC 200提供强大的成像和数据采集功能,使用户能够轻松分析掩码和晶圆图像的缺陷。该机器能够生成各种对比的图像，包括假颜色、强度和双波长。它还支持多种图像处理技术，包括色彩溷合、空间过滤和非线性缩放。该工具具有集成的缺陷检测资产,可用于分析图像的缺陷,如线缘粗糙度（LER）、线宽变化（LWV）和小桥（SB）。缺陷检测模型是可定制的，用户可以为不同类型的设备和设计规则定义检查参数。除了检查口罩和晶片外，还可以使用200来检查键合垫、金属区域、Photomask晶体管、photo vias等。该设备与各种掩模和晶片材料兼容，包括用于先进晶片级封装（WLP）工艺的材料。LEICA/VISTEC 200是一种先进且高度可靠的掩模和晶片检查系统,可提高用户的性能、可靠性和拥有成本。通过使用先进的光学成像技术，该装置可以很容易地检测到各种各样的缺陷，这使得它成为半导体制造商的理想选择。