二手 LEICA / VISTEC 3300 #9238318 待售

LEICA / VISTEC 3300
製造商
LEICA / VISTEC
模型
3300
ID: 9238318
晶圆大小: 8"-12"
优质的: 2003
Wafer inspection system, 8"-12" 2003 vintage.
LEICA/VISTEC 3300掩模和晶圆检验设备旨在帮助半导体制造商确保其设备的最高质量标准。该系统采用高精度光学和运动技术,能够快速准确地检测掩模和晶圆制造过程中的缺陷。该单元的设计以桌面和垂直对齐平台为基础,便于操作和调整零件。其光学系统旨在以最小的努力和最大的可靠性为用户提供高分辨率和阴影精度。其扫描精度被设计为精确到2 μ米,其自动聚焦技术确保焦点在检查过程中保持固定。照明技术方面,LEICA 3300采用LED光和漫射激光器的组合。比激光技术便宜的LED灯用于提供晶圆缺陷的高对比度图像,而漫射激光器则用于检查掩模是否有更精细的缺陷。该机器还配备了一系列数据捕获和分析工具,使用户能够快速准确地检测和分类缺陷或不规则性。该工具还提供了一系列分析工具,如Visualization Analysis、Stistogram analysis和3-D图像重建,使用户可以轻松区分好的和坏的区域。此外,它的用户友好界面让用户能够准确监控和控制资产,提供出色的用户体验。该软件具有联机帮助和模型显示参数,可帮助用户完成任务。VISTEC 3300掩模和晶片检测设备设计用于任何环境下的可靠操作,并提供高效的制造工艺。它是想要确保其产品提供最高质量和性能水平的半导体制造商的必备产品。
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