二手 LEICA / VISTEC IMS 2000 #9283662 待售
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ID: 9283662
晶圆大小: 8"
Wafer inspection system, 8"
Cassette to cassette
Wafer handling
LEICA ERGOPLAN microscope with motorized X/Y 225 mm movement table
Leica PL Fluotar 10X, 20X
Leica PL APO 50X, 100X, 150X
Ergonomic Binocular viewing optics with Leica L plan 10X /25 eyepieces
ICR option (Interference Contrast Reflection (Nomarski Princible))
Laser autofocus
Integrated Dual Secondary Magnification with 1X, 1.6X and 2.5X range
Photographic Eye Tube with zoom adapter lense with 0.55X - 1.1X magnification range
Lamphouse
power supply: 100W, 12V
Halogen bulb
Donpisha 3CCD color vision camera module
Sony CMA-D2 camera adapter
Sony HR Trinitron
Model: PVM-1453MD monitor
HP Super VGA
Model: D2 HeNe laser
SMC digital pressure sensor
Power: 120V / 230V, 50 Hz / 60 Hz
CE marked.
LEICA/VISTEC IMS 2000是一种掩模和晶片检查设备，设计用于对半导体制造过程中结构的几何形状和地形进行完整的评估。它具有高分辨率的成像能力，能够检测小至1微米的表面缺陷，以及掩模人工制品。它的高级软件功能支持光学测量和自动化过程控制,并提供多种测量选项。该系统特别适合检测密集电路区域的缺陷，如动态随机存取存储器（DRAM）和逻辑芯片。该单元由图像采集机、显微镜级和控制单元三个主要组件组成。图像采集工具包括电荷耦合器件相机和显微镜物镜。它允许对结构进行高分辨率成像，直至纳米级。显微镜级由X-Y-Z线性步进机构组成，为缺陷检测提供了准确、可重复的表面扫描路径。它还能够自动化样品和样品装卸。最后，控制资产包含所有必要的图像处理和自动化功能，允许用户根据自己的需求轻松快速地配置仪器。LEICA IMS 2000能够产生晶圆和掩码的高分辨率数字图像,并且能够对这些图像进行后处理以进行缺陷检测和测量。成像模型配备了"智能滤镜"技术，可以自动检测表面缺陷和掩模制品。同时，显微镜阶段能够进行平面场地形测量，精度可低至1纳米。此外，显微镜可以用复杂的网格和模式进行编程，以便自动检测缺陷和晶圆配准。VISTEC IMS 2000旨在提供可靠的检查性能,并在短时间内提供完整的分析。这使其成为先进半导体制造应用中质量保证和工艺控制的理想选择。其直观的软件界面和可靠、自动化的功能有助于简化多项繁琐而冗长的任务,从而有助于提高生产效率。
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