二手 LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9047675 待售
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ID: 9047675
Defect inspection system
Wafer-handling station two ports front load
Inspection and review application
Standard UV + High Performance DUV application
Automatic DIC Module
Pre-aligner for Macro-Inspection
KLARF input for Defect Review
ADR – Automatic defect review of KLARF files
Windows XP operating system
CCD Camera
Automatic high resolution inspections at 2.5X, 20X, 50X, 100X, and 150X (UV and DUV)
Unit offers bright-light macro inspection, dark-field, and DIC inspections
Operator console, track-ball, joy stick, motorized stage
Viscon application software
Defects from the KLARF (files from automatic inspection tool) can be reviewed in auto or manual mode.
LEICA/VISTEC INS 3000 DUV面罩和晶片检测设备是专门为面罩和晶片检测而设计的高性能光学显微镜系统。它提供了关键过程控制所需的最高灵敏度和分辨率。该单元结合了高速立体显微镜、数字图像处理器和高级软件功能,能够以高精度和高精度检查光学复杂的掩模和晶圆特性。LEICA INS 3000 DUV具有高速、全画幅速率的立体显微镜,以快速、不间断的观测提供高度详细的3D图像。这台机器有一个专利相干光源的最佳对比度和图像清晰度。非相干聚焦跟踪工具可确保对检测器阵列的每个像素进行优化聚焦。自动优化功能进一步实时调整显微镜参数,优化成像性能。该资产还具有一个板载数字图像处理器,用于处理、存储和归档数字图像文件。它通过自动分区、感兴趣的区域和多层显示功能提供快速而强大的图像处理。界面允许灵活性和自定义分析以满足所有检查要求。该软件还使操作员能够快速分析数据、模拟详细配置文件和存档图像。除了这些功能外,VISTEC INS 3000 DUV还具有3D矢量测量套件,可以进行精确的实时测量。它还提供3D颜色矩阵和2D测量选项,允许分析任何元件大小或形状。此功能允许在各种应用程序中进行准确、可重复的测量。INS 3000 DUV是一种高度先进的掩模和晶圆检测模型,可提供最高级别的性能和准确性。凭借其高灵敏度和分辨率,它甚至可以检测到口罩和晶片中最小的缺陷。它提供高精度、高细节的快速成像,以及先进的图像处理功能,以实现高效的数据分析。3 D矢量测量套件可确保精确、可重复的测量。该设备是工业和科学应用过程控制的理想设备。
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