二手 LEICA / VISTEC INS 3300 #9043670 待售

LEICA/VISTEC INS 3300掩模和晶片检查设备是为有效分析掩模和晶片而设计的。适用于半导体制造生产、研发阶段光学掩模模式和临界光学电路元件的研究。LEICA INS 3300旨在实现最大限度的工作流程集成,使其能够集成到现有生产线中。光学系统包括CCD摄像机、高分辨率液晶显示器、精密x-y-z-tilt级以及带浸入式物镜和中心校正装置的高效光学单元。该机器可与可选的显微镜和成像软件（即LEICA MOM Suite）结合使用,使其成为过程监控和缺陷检查的理想工具。VISTEC INS 3300工具提供多种测量功能,从简单的手动检查到全自动检查序列。先进的检查算法检测到眼睛看不见的掩模和晶片中的故障，如污染、污染相关缺陷、未预期的坑、异物、颗粒或孤立斑点。此外，资产具有独特的"边缘轨迹"特征，清楚地显示晶圆或掩模的外边缘。INS 3300掩码和晶片检查模型提供两个扫描/分辨率选项和两个聚焦选项。高分辨率选项提供0.2µm的图像分辨率和300线/秒的扫描速度。基本分辨率提供0.8µm的图像分辨率和200 line/s的扫描速度。焦点选项可以设置为手动或自动模式；在手动模式下，用户可以手动设置焦点，在自动模式下，设备自动聚焦对象表面。该系统还包括高质量的组件，如用于明亮、均匀照明的集成背光照明单元。集成的冷却元件即使在较高的温度下也能确保稳定可靠的机器性能。此外,LEICA/VISTEC INS 3300掩模和晶圆检验工具符合SEMI-S2和CENELEC-EN50660-2等国际标准。LEICA INS 3300 Mask&Wafer Inspection Asset是一种精密的检测模式，在最具挑战性的晶圆和Mask Inspection任务中提供高质量的性能。它为高速、准确和重复性关键型调查提供了许多高级功能。所有这些特性，加上它易于集成到更大的系统中，使得VISTEC INS 3300设备成为最全面和可靠的掩模和晶圆检查的绝佳选择。