二手 LEICA / VISTEC LDS 300M #9249428 待售

LEICA/VISTEC LDS 300 M是一种高科技的掩模和晶圆检测设备，设计用于满足光掩模和晶圆制造商的先进需求。该系统支持快速、准确和高度详细的缺陷检测。LEICA LDS 300 M结合了先进的激光二极管扫描（LDS）技术和强大的成像软件来检测小至0.6 μ m的缺陷。VISTEC LDS 300 M设计方便检查200 mm和300 mm尺寸的口罩和晶圆，最大视野为25 mm x 25 mm，最大分辨率为3 μ m。设备的自动校准确保所检查和参考的光掩模精确对齐,以便进行详细的可视化和缺陷分析。LDS 300 M独特的照明机包括Variable Triangle和Variable Pulse Imaging™，提供来自可变角度和可变脉冲照明的高对比度、高分辨率图像。这确保了缺陷，甚至是微小的漂移和微裂纹，都能被放心地检测和分析。此外,LEICA/VISTEC LDS 300 M可以对高速、精确和可靠的大区域执行检查、审查和分析。LEICA LDS 300 M还具有先进的缺陷分类工具，包括自动识别被检查的掩模和晶片异常的算法。该工具的高级软件包包括几个分类文档,这些文档提供了有关如何设置和分析测试结果的逐步说明。此外,VISTEC LDS 300 M的检查结果可以存储在盒式磁带上,作为JPEG文件,并且可以通过USB导出。LDS 300 M是一种功能强大且可靠的资产，旨在检测和分析光掩模和晶圆技术中最小的缺陷。该模型先进的LDS和成像技术,结合其直观的软件和用户友好的操作系统,确保准确检测和分析缺陷。此外,LEICA/VISTEC LDS 300 M是寻求可靠、高性能的掩模和晶片检测设备的光掩模和晶片制造商的理想解决方桉。