二手 LEICA / VISTEC LDS 3300M #293652321 待售
网址复制成功!
单击可缩放
LEICA/VISTEC LDS 3300M是一种全自动的掩模和晶片检查设备,设计用于高精度分析由细线和高对比度特征组成的光掩模和晶片。该系统采用了高分辨率的1000 μ米检查区域摄像头,允许高达140 MP的分辨率,从而实现了对表面和地下特征的高分辨率成像。它支持各种反射和透射遮罩材料,并能够对20 nm线和空间以下的特征进行成像。LEICA LDS3300M配备了多种功能强大的后处理工具,如图像减法、图像添加、比较和掩码对齐等。然后可以使用包括颜色编码、3D检查和假颜色映射在内的特征进一步处理对齐的图像。VISTEC LDS 3300 M配备了先进的光学和图像处理能力,以确保可靠、准确和快速的检查。其独特的高精度检测技术是专门为评估校准精度而设计的,即掩模与晶片之间的尺寸精度。该设备是口罩鉴定、产品设计开发监督、参数验证和确认的理想设备。除了精确度外,该机器还可以编程为并行执行几项检查任务,从而提高流程和产品数据吞吐量。LDS 3300 M包含先进的亮度和对比度控制工具,允许用户修改亮度和对比度设置,以实现明场和暗场成像,并区分图像噪声和图像缺陷。此外,资产包含一个综合的自动化缺陷审查和分类程序,以便在检查和审查期间提高生产率。LDS3300M还包括一套内置芯片鉴定模块,以确保可靠的芯片生产过程,以及各种内置性能指标,以便于对掩模性能进行定性和定量评估。最后,LEICA/VISTEC LDS 3300 M中包含的预防性维护模型可确保设备在最高效率时始终运行。该系统允许远程错误检测和通知,非常适合高吞吐量和关键制造环境。LEICA LDS 3300M为掩模和晶片检测提供了快速、准确和可靠的解决方桉,是当今最先进的掩模和晶片检测系统之一。
还没有评论