二手 LEICA / VISTEC LWS 2000 #9115819 待售

LEICA/VISTEC LWS 2000 Mask&Wafer Inspection设备是一种用途广泛的高性能仪器,用于精确检查任何光掩模或晶圆。该系统采用自动口罩对准器（AMat）,具有精确的500 mm x 500 mm级和高分辨率、低失真的摄像头,以确保高质量的成像。LEICA LWS 2000还具有高端扫描头,能够在单帧中捕获大视野。集成光学单元经过优化,可以在成像过程中精确对准晶片/掩模,从而确保精确测量。板载对齐软件使用户能够快速准确地建立和调整焦点。Mask&Wafer Inspection机器包括一个直观的图形用户界面,使用户能够轻松访问一系列功能强大的算法来分析获取的图像。综合计量学工具可用于评估光刻过程，检测任何缺陷如图样边缘或图样交叉误差，准确估计图样的临界尺寸。高级缝合和自动化鉴定工具使用户能够快速评估晶圆鉴定所需的一系列参数。该工具还能够检测颜色、缺陷、粒子、异常、异物和其他变量。它配备了一套完全可配置的集成照明选项,允许在任意几何形状和特征中进行可靠的缺陷检测。此外，资产利用一系列集成算法提供快速缺陷检测和报告。其闪电快速成像功能使用户能够快速高效地分析大型晶圆区域。此外,VISTEC LWS 2000提供了一组功能强大的面向数学的工具,可用于精确分析晶圆特征、识别缺陷和测量某些参数。用户可以在绝对、相对或溷合模式下执行这些测量,从而实现进一步的分析和改进。此外，集成模式识别算法能够检测复杂设计结构中的异常。该模型非常适合任何需要精确晶圆测量和缺陷检测的应用。