二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #293671054 待售

LEICA/VISTEC MIS 200面罩和晶圆检验系统是一种全自动计量仪器，设计用于半导体工业。其主要目的是快速准确地检测光刻面膜或晶片的缺陷和缺陷。它提供精确、高吞吐量和可靠的数据收集。该系统配备了先进的光学成像、X射线发光和检测系统，以及用于检测缺陷的鲁棒算法。它专为高效操作而设计,可轻松与其他高级工具集成。LEICA MIS 200采用激光共聚焦显微镜,可提供二维（2D）图像,在掩模或晶片中的特征之间具有良好的对比度。扫描图像的分辨率可达200纳米，可有效检测微观缺陷。另外,还使用四维（4D）扫描X射线显微镜（SXM）检测材料中的三维（3D）缺陷或拓扑变化。利用X射线技术,在较大的表面积上扫描时可获得高达1000 nm的分辨率。VISTEC MIS 200还配备了紫外线滤波器,能够在紫外线（UV）范围内进行检查。这一特性使得可视化缺陷和晶圆材料之间的紫外线反射率差异成为可能。可以选择正向（FS）和暗场（DF）成像选项,以最好地分析所讨论的晶片或掩模的表面。缺陷检测器被编程为评估传入数据并识别任何缺陷。其算法设计用于检测缺陷,无论大小、形状、角度或对比度如何。一个独特的光束轮廓也允许同时分析几个图像，以便识别和大小缺陷。从MIS 200收集的数据使用图形用户界面（GUI）易于解释,可用于生成完整的缺陷、胶卷和迭加图像。这些图像可以通过电子方式发送或打印,以进行审阅、测量和优化。它的自动化功能和用户友好的设计使LEICA/VISTEC MIS 200成为掩模和晶圆检查应用的理想选择。