二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #77516 待售

LEICA/VISTEC MIS 200是半导体工业中使用的一种精密的掩模和晶圆检测设备。该系统利用一流的光学检查技术，加上出色的光学和成像工具，提供准确、可靠和可重复的结果。该单元专为光掩模检测而设计，其高放大能力、柔韧性和先进的彩色成像技术使其成为最全面的面罩检测机。该工具采用先进的光学技术，旨在提供卓越的图像质量和分辨率，为各种尺寸、形状和材料提供各种检查结果。该资产采用模块化设计,采用多种光学功能,包括5倍至40倍的原生放大倍率,用于成像/检查（变焦范围可达500倍）、光纤照明、亮场、暗场和斜光,以及自动暗场和亮场检查。该模型与成像和分析软件套件ARRIANA LAB接口,以实现不透明度、边缘拉力、详细成像和其他应用程序的实时缺陷审查和优化。该设备具有自动采集图像和自动对焦功能、强大的色彩管理和先进的模式识别软件。它还具有多图像视图（MIV）技术,可以同时查看多个图像,从而提供质量保证和缺陷分析。该系统配备了功能齐全的客户端/服务器网络体系结构,可在掩码和其他诊断工具之间快速轻松地共享数据。该单元包括一个接近效应校正（PEC）包，它精确模拟成像伪像的效果，如那些由灰尘和划痕。该机器还可用于晶圆、零件和组件的检查。它提供高分辨率成像和弱光能力，以检测晶圆处理过程中可能发生的微小颗粒、划痕和其他异常。它的高级分析功能使用户能够快速识别和纠正潜在问题。LEICA MIS 200是半导体制造商的宝贵资产,因为它有助于确保安全、可靠和高产产量。它非常适合生产、质量控制和故障分析应用，提供优异的性能和质量控制结果。