二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #9137335 待售

LEICA/VISTEC MIS 200掩模和晶片检测设备是检查、验证和纠正光掩模和晶片产品缺陷的理想解决方桉。该系统可提供高精度的成像、缺陷检测和校正,从而提高产品性能和产量。LEICA MIS 200单元背后的技术是多层光学、优化数值成像算法和基础物理的独特组合。该机利用透镜光学和先进的光散射技术，创建缺陷点的高分辨率图像，使工具能够快速准确地检测和分类缺陷点。成像过程还通过使用严格的缺陷相干算法准确确定缺陷大小和形状来捕捉缺陷的全宽度。VISTEC MIS 200具有开放的体系结构,可增强灵活性,允许升级和与其他现有软件和硬件集成。该资产还具有高效的用户界面,可快速轻松地进行掩码和晶圆检查设置,以及功能强大的自动化缺陷分析和纠正工具。该模型可以检测许多不同类型的缺陷和像差，包括颗粒缺陷、裂纹、划痕、不完全吸收层以及其他常见的故障。此外,它还可以检测多达9层的多层掩码缺陷。该设备还允许用户快速分析缺陷信息以进行提示更正，从而无需运行或重新运行额外的测试进程。MIS 200面膜和晶片检验系统是提高生产面膜和晶片精度的有效方法。这台机器具有创新的光学单元、强大的自动化工具和强大的设计,为希望提高产品生产效率和可靠性的制造商提供了理想的解决方桉。