二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #9234197 待售

LEICA/VISTEC MIS 200是为半导体生产应用而设计的掩模和晶圆检测设备。它是一个高性能的系统，允许用户准确检查其掩模、晶片和其他相关材料的每一级，同时尽量减少所需的时间和工作量。该股由若干组成部分组成，这些组成部分共同努力确保进行高效和准确的检查。LEICA MIS 200的关键部件包括高分辨率共焦成像模块、偏振对比度模块、总反射率模块、多视觉检查模块、样品清洁度检查模块、对准站和软件包。机器的成像模块配备了先进的高质量成像技术，能够对掩模和晶片进行精确检查。此模块以卓越的清晰度扫描图像并解析精细的细节,从而使用户能够准确识别和评估扫描的掩码和晶片上的最小缺陷。偏振对比度模块允许用户检查图样表面上的偏振光，而不会出现暴露不足或过度暴露的斑点。此外,此模块还可以检测标准检查方法通常会遗漏的缺陷。总反射率模块设计用于在掩模和晶片上进行快速、定量的反射率映射。此模块测量反射率和薄膜厚度,使用户能够检测相邻层之间的小厚度差异。多重视觉检查模块是一种功能强大的光学工具，可为用户提供关于缺陷的增强视图。此模块允许用户识别扫描的掩码和晶片的表面缺陷。此外,此模块还能够识别扫描的掩码和晶片之间损坏的电气连接。该工具的样品清洁度检查模块使用户能够在检查前准确检查样品的清洁度。该模块检测污染物，如粉尘和有机碎片，使使用者能够在进一步检查前清除污染物。资产的对准站配备激光技术，确保被检查的掩模和晶片精确对准。这种可靠的对齐方式将确保掩码和晶片的所有扫描都是准确和一致的。最后，VISTEC MIS 200还包括一个使整个检查过程自动化的软件包。软件包括图像处理和分析工具，以及一个直观的用户界面，允许用户轻松监控和配置他们的检查设置。总体而言,MIS 200是一种高度先进的掩码和晶片检查模型,它使用户能够快速准确地检查其掩码和晶片是否有缺陷。是半导体生产应用的理想解决方桉。