二手 LEITZ 100x #9177017 待售

LEITZ 100 x Mask&Wafer Inspection system是一种用于半导体晶片和Mask的高分辨率成像的显微镜设备。它具有自动化的电动舞台、精密的CCD摄像机以及用于放大和检查的长工作距离目标。100 x提供优异的光学性能,具有快速的10位图像采集速率和24位颜色。该系统设计小巧轻巧,非常适合空间有限的工业环境。LEITZ 100 x具有高度先进的机动化阶段,能够精确定位和扫描对象以进行成像。集成的CCD摄像头以130万像素的分辨率捕捉高分辨率图像,最大帧速率为30f/s。机动化级可以编程调整其位置和速度，以便于晶圆和掩模的精确扫描。此外,符合人体工程学、可调节的对焦旋钮可确保轻松准确的对焦。100 x还具有一系列可用的目标，从用于广域设想的低倍率5倍目标到用于显微镜检查的高倍率LEITZ 100倍S-Plan Apochromat目标。内置软件可方便地进行图像采集和处理,并提供通用的数据分析。100 x还具有高达25 mm的长工作距离,可在不接触口罩或晶片的情况下进行近距离检查。此外,LEITZ 100 x还配备了先进的照明工程,以确保最佳的图像质量.Brightfield, darkfield, and antlique lighting are available, have user with the flexibility to customize the illumination needs for eLED提供持久、一致的光,而冷凝器在整个样品表面提供均匀和高强度的照明。100 x是工业和实验室环境中的掩模和晶圆检验的理想选择。其先进的成像系统、可变目标、照明技术和长工作距离相结合,使其成为各种成像应用的完美工具。可调参数，如对焦旋钮、舞台速度和可选照明模式，为每个样品的成像要求提供了轻松精细的调整。LEITZ 100 x是一种高性能、可靠的工具,可促进各种应用程序的卓越分辨率成像。