二手 METRICON 2010/M #80299 待售

METRICON 2010/M Mask and Wafer Inspection设备是一种自动化的高精度光学检查和测量工具,用于关键的集成电路生产。该系统在一个综合单元中结合了三个专门仪器，用于检查和测量掩模和晶片材料。这允许通过自动可视化、灵活测试和通过/失败分类来评估晶圆特性。METRICON 2010/M包括一个用于晶圆缺陷检测的XY级和两个用于测量掩模形状和轮廓的光学仪器。XY级驱动二维扫描平台,使机器能够同时捕获掩码或晶片的顶视图和横截面图像。光学仪器包括一个散射仪，用于测量掩模的光学散射特性，以及扫描电子显微镜（SEM）。SEM用于分析掩码的结构和特性,提供非常适合3D成像的高分辨率图像。除了这两种仪器外，METRICON 2010/M工具还包括一个3D级，用于获取掩模或晶片的高度和形状的测量值。这是利用激光光束完成的，激光光束扫描表面，并用于构造所讨论对象的3D图像。最后,METRICON 2010/M资产还包括许多软件组件,用于自动获取数据以进行分析。该软件包括可快速分析数据的统计模型，以及用于从为检查过程获取的大量数据中提取信息的数据挖掘模块。METRICON 2010/M模型是用于掩模和晶圆检查的强大工具，在评估特征时提供高精度和准确性。与手动检查方法相比，利用这些工具可以缩短测试周期并提高成本效益。该设备被领先的半导体公司用于生产集成电路，用于质量控制和过程监测。