二手 METRICON 2010 #9246090 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9246090
Prism coupler
Reflective index: Single / Dual thin film layers
Measurement accuracy and resolution:
Index accuracy: ± .001
Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A)
Index resolution: ± .0005
Thickness resolution: ±0.3%
Refractive index measuring range:
Films and bulk materials with refractive index: 2.45
Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness)
Typical measurement time:
10-25 Seconds with standard table
15-75 Seconds with high resolution table
Index measurement of bulk materials / thick films:
Accuracy: ± .001
Resolution: ± .0005
Bulk measurement: 5-20 Seconds
Operating wavelength:
Low power: 0.5mW
He-Ne Laser: 632.8nm
CDRH / BRH Class II
Substrate materials:
Silicon
GaAs
Glass
Quartz
Sapphire
GGG
Lithium niobate
Substrate size: Up to 150 mm²
Prism types / Index range:
200-P-1 / <1.80
200-P-2 / 1.70-2.45
200-P-3 / <2.10
200-P-4 / <2.02
Rotary table step size:
3.0 or 1.5 min
High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min
No-charge option.
METRICON 2010是一款最先进的自动面罩和晶圆检测设备,旨在满足半导体检测的最高标准。该系统采用先进的模式匹配和光学显微镜技术,以无与伦比的精度发现和分类掩模缺陷和晶圆污染。利用先进的算法,2010年能够以高度精确的分辨率扫描晶片,使其能够检测到低至1/100微米的缺陷。专有的照明解决方桉也可用于使METRICON 2010能够准确识别任何被检查晶圆中最小的缺陷。由于采用了12 MP相机技术,该装置对0.2um以上的微粒和0.5um以下的亚微米缺陷提供了有效的检测率。除了密切关注整个晶片外,2010还遵循行业标准的清洁室配置以及高级故障隔离功能,这些功能允许快速识别和排除缺陷区域。这有助于确保高规格零件的产量以及提高工艺效率。METRICON 2010的其他功能包括用于整个掩模检查的高速扫描,以及可直观显示缺陷位置的直观GUI。通过显示缺陷属性(如大小、形状、位置和方向),可以提高缺陷分类的准确性。2010年机器的自动化和多功能性使其成为高通量生产的理想选择,在整个掩模和晶圆检测过程中提供了成本效益和提高的效率。此高级工具旨在提供卓越的准确性和性能,以帮助应对当今快速增长的半导体行业的挑战。
还没有评论