二手 MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732 待售

MICRO-METRIC MicroLine ML420 Mask&Wafer Inspection设备旨在满足半导体制造工艺日益严格的要求。它利用先进的光学技术和计量技术来分析半导体器件的完整性。该ML420能够检测高密度、多级模式、电路结构、亚微米特征以及在长达两微米深度的缺陷形成。该系统具有自动级,可以扫描和检查高达250毫米的晶圆,扫描速度高达4K/秒。ML420还配备了独特的自旋扫描功能,可以在检查过程中旋转晶片,突出显示选定的感兴趣/缺陷区域。这样可以更深入地查看每个特征。此外,该单元还包括一个自动的"每视图聚焦"（FPV）模块,该模块在扫描时调整图像字段,以补偿晶圆表面地形,从而提供更高的精度和准确性。该ML420还具有强大的光路径处理（LPP）算法,该算法根据统计标准检测模式和缺陷,从而最大限度地减少了用户手动验证数据的需求。该ML420还包含内置的图像质量增强（IQE）算法。这些算法可自动增强采集的图像，从而无需手动调整增益和偏移值，从而提高了过程的可重复性。由于其强大的优化功能和可配置的操作参数,该机器还可用于各种应用,如Resist Imaging、Sub-Pixel Edge Detection和Cross-Line Measurements Inspection。该ML420还包括一个集成的缺陷管理工具,并提供用于缺陷隔离、表征、检测、分类和标记的自动化工作流。这有助于减少检查时间,并确保不遗漏任何严重缺陷。此外,该资产还具有数据记录、报告和远程诊断功能,可帮助用户实时排除问题。MicroLine ML420 Mask&Wafer Inspection模型的先进特性使其成为半导体器件的强大解决方桉。它为检测高密度、亚微米结构和复杂电路提供了可靠有效的结果，可以提高产量和提高工艺控制。这使ML420成为寻求高级光学检查解决方桉的组织的首选。