二手 NANOMETRICS 200 #9226184 待售

製造商
NANOMETRICS
模型
200
ID: 9226184
晶圆大小: 6"
System, 6".
NANOMETRICS 200是一款最先进的掩模和晶圆检测设备,可提供高精度3D计量和缺陷分辨率功能。它用于检测半导体器件和材料的表面和地下缺陷。200将先进的纳米级成像技术与综合图像处理算法相结合。该系统为掩模和晶片检查提供了多种测量模式,甚至可以配置为测量掩模或晶片边缘的形状。该单元由包含高分辨率镜头阵列的硬件单元、扫描头、图像捕获设备和控制舞台位置和运动的电动舞台机组成。硬件单元连接到提供用户界面、图像处理算法和其他功能的计算机。软件套件包括多种用于检查掩码和晶片的工具,如缺陷跟踪、统计过程控制、高级表面重建和过程优化。NANOMETRICS 200利用各种成像技术进行各种应用。这些成像技术包括标线聚焦成像(RFI)、高分辨率成像(HRI)、图样光成像(PLI)、区域阵列成像(AAI)和电子束成像(EBI)。这些技术有助于确保准确可靠地检测到所有表面和地下缺陷。除了其精密的掩模和晶圆检测能力外,还可以使用200来测量形状特征,解决尺寸相关的工艺问题,甚至检测最小的工艺诱导缺陷。该工具还配备了自动缺陷分类和分类功能,更容易查明和区分不同的缺陷类型。NANOMETRICS 200能够扫描和测量大面积,使其能够轻松处理多个掩模和晶圆检查任务。其先进的分析算法甚至可以检测到最微小的缺陷,确保客户得到准确的结果。其可靠的操作,加上直观的用户界面,使其成为掩码和晶圆检测任务的绝佳选择。
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