二手 NANOMETRICS 210 #9123978 待售
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ID: 9123978
晶圆大小: 1-6"
Thin film thickness measurement systems, 3"-6"
Includes:
Photoresists
Polyimides
Polysilicon
Oxides
Nitrides
Ranges: 100A to 500kA
Measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210是一种用于半导体制造和检验的掩模和晶圆检验设备。该系统采用最先进的光谱成像扫描算法,提供快速准确的检测结果。该单元提供了高分辨率模式和高动态范围模式两种独立的检测模式,使用户可以以细节和清晰的方式对广泛的基板进行检测。210机包括由先进光学元件组成的先进光学工具,如物镜、光盾和光源。这一光学资产具有0.5µm的出色分辨率,确保了准确可靠的结果。此外,该模型的光学设备利用狭缝扫描和场扫描进行高速、深入的数据收集。此外,NANOMETRICS 210系统集成了创新的单色双极链成像算法。该算法使设备能够检测各种基板的图样和尺寸的缺陷,包括透明、金属和灰度。光机与成像算法的结合,保证了准确快速的图像处理。此组合使该工具能够生成范围超过10 µm且动态范围出色的高分辨率图像。此外,该资产还配备了模块化软件套件,能够进行分析和缺陷检查。其软件包括用于掩码检查和缺陷分类、缺陷级别测量和审查的工具,以及在保持低误报率的同时选择、定位和测量缺陷的能力。210已经设计满足了半导体生产的要求。该模型提供了快速吞吐量、高分辨率、准确性、低误报率以及在其软件中实现的多种分析技术。这些组件,加上它可以检查的各种基板和缺陷类型,使得半导体生产能够快速、准确、高产量。
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