二手 NANOMETRICS 210 #9160092 待售
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ID: 9160092
Thin film thickness measurement system, 4"
Range of thicknesses: 100 to 500,000 angstroms
Spot size:
50 um with 5x objective
25 um with 10x objective
6.5 um with 40x objective
Olympus M10x and M40x objective
Optional objectives are Olympus M5X and M100X
Film types:
Oxide on silicon
Nitride on silicon
Negative resist on silicon
Polysilicon on oxide
Negative resist on oxide
Nitride on oxide
Polyimide on silicon
Positive resist on silicon
Positive resist on oxide
Reflectance mode
Thick films reproducibility: 5A ± 5% depend
Typical measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210 Mask&Wafer Inspection Equipment是一种革命性的自动化解决方桉,用于审查半导体和其他微电子器件制造工艺的进展。210凭借其业界领先的光学设备、自动运动舞台和直观的软件,为用户提供了令人难以置信的产品详细图片,有助于确保准确性并促进快速决策。NANOMETRICS 210具有一套工具和检查功能,所有这些功能均以NANOMETRICS领先、高度精确的光学系统为后盾。该系统可以快速检测和测量掩模或晶片特征的微小变化,如图桉大小和形状、线宽和间距,以及特征的缺失、存在和位置。此外,210还能够检查颜色、对比度、几何连续性、配准精度等其他特征。借助NANOMETRICS 210广泛的分辨率和校准选项,用户可以对其晶片进行非常全面的查看。该单元还提供了一套强大的软件,旨在简化用户的检查过程。从项目开始到结束,210的专用用户界面旨在实现直观操作。使用自动化功能(如基板处理、热稳定和自动扫描),用户可以完全控制其项目。此外,NANOMETRICS 210软件还提供了图形和跟踪功能等分析工具,使用户可以准确评估其微电子设备的状况。210旨在方便测试过程,同时提供前所未有的准确性和可靠性。其业界领先的光学和运动阶段提供了高度精确的检查功能,其直观的软件使用户能够从头到尾高效地管理他们的项目。NANOMETRICS 210是微电子制造行业任何人都必须拥有的机器。
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