二手 NANOMETRICS 4150 #9124007 待售
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ID: 9124007
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 1994
Reflectivity & mapping system, 6"-8"
Film thickness
Single and multiple layer measurement programs
Ability to select film constants
Scan ranges and substrate types
High speed auto-focus torret style objectives head
MSPlan 5
MSPlan 10
MSPlan 50
Reflecting objective x15
Programmable mapping stage: Accuracy +/- 2 mm data analysis
Motorized stage
Stage accuracy: 2mm High resolution contour
3D Mapping
Pulnix TMC-7 camera rapid measurement program development extensive data management SPC capabilities
Mapping: Contour 2D & 3D
115VAC, 5A,50/60Hz
1994 vintage.
NANOMETRICS 4150是一种在半导体工业中广泛使用的掩模和晶圆检测设备。它有助于确保口罩和晶片满足临界公差并且没有缺陷。该系统提供两种检查功能:静态成像和动态成像。静态成像用于识别总缺陷,如内置电荷、空隙、分层和各种污染物。它通过检测从掩模或晶片表面反射的光来实现此目的。动态成像用于识别静态成像可能看不见的细小缺陷,如胶片或基板中的颗粒或异物。该单元配备了一系列先进的特点,以保证检测的准确性。例如,它使用带有伺服驱动器的高速X-Y舞台,在相机上移动样品,提供快速精确的定位。Sub Micron Step Profile Measurement(子微米步进轮廓测量)选项用于检测样品表面在0.1-100 μ m范围内的曲率。此外,纳米模式匹配工具用于测量两个掩模之间或晶圆的两个不同层之间的纳米尺度差异。机器中使用的光学元件高度灵敏和精确,能够检测0.5-2 μ m之间的特征。背面成像选项还允许检查外层结构,而特殊的探测器设置有助于优化信噪比。该工具的用户界面旨在为快速检查提供简单直观的操作。它的实时多窗口和拆分窗口技术允许同时检查多个样本,而其三维用户界面则允许更好的视觉效果对缺陷进行分类。总体而言,4150资产提供了高级功能,可用于在掩模和晶片中进行准确、高效的缺陷检查。这有助于用户确保产品完整性并减少浪费,最终节省成本。
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