二手 NANOMETRICS 565 094 329 #9242380 待售

NANOMETRICS 565 094 329掩模和晶圆检测设备是一种先进的光学工具,使光刻师和屈服工程师能够在纳米分辨率级别检测缺陷。这使他们能够发现半导体和其他先进微器件制造中的微观结构缺陷，最终导致产量提高和上市时间加快。该系统设计用于任何先进芯片生产设施的洁净室，利用与运行芯片制造过程相同的环境。在这些洁净的房间内，部署了NANOMETRICS掩模和晶圆检查装置，以识别可能进入设计层间工作区域的任何异物碎片或"FOD"。除了FOD之外，机器还能够检测到设备内可能存在的表面缺陷、错位和其他不规则性。这是通过使用工具的纳米分辨率来逐层检查设备以识别任何此类不规则性来实现的。资产使用的模式匹配算法能够识别可能指示存在缺陷的模式。这也确保了所检查特征的最高保真度。NANOMETRICS模型还利用滤镜来查看正在检查的样本图像。这些滤光片利用紫外线、可见光、红外光和其他波长提供不同的分辨率水平，以确保缺陷检测。该设备还包括一个高质量的图像记录界面，允许光刻工程师存储图像进行特写检查。这些图像可以在软件工程团队的几个成员之间存储、召回或共享。除了能够以纳米分辨率检测缺陷外,565 094 329还具有舞台运动控制、自动测量功能、多个关注区域、直观的用户界面以及易于使用的硬件控制等其他几个功能。NANOMETRICS 565 094 329掩模和晶圆检测系统是半导体和其他微电子器件制造中质量检测和缺陷检测的首要工具。这个单位彻底改变了这个行业，并允许更高的收益率和更快的上市速度。