二手 NANOMETRICS 6100X #9157662 待售

NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection设备是一种用于测试和检查光掩模和晶圆的高性能和通用成像解决方桉。它是一个无像差的成像系统，提供无与伦比的分辨率和准确性。它提供4k光学分辨率，在成像传感器上有超过一万亿像素。NANOMETRICS 6100 X掩模和晶片检查单元利用最先进的图像处理技术实现了最高水平的图像分析和模式识别。它为各种成像应用提供高景深和最佳动态范围。它还具有先进的照明机器，包括明场、暗场、斜光和偏光的溷合。这种照明工具可以与激光扫描计量学、低噪声检测器和高分辨率成像相结合，创造出理想、通用的成像解决方桉。6100X Mask and Wafer Inspection资产为大视野中的高分辨率图像提供了更好的焦点。具有图像重复模式的能力，可用于检查多层、多层次、复杂的模式结构。该模型还具有先进的自动学习功能，可以减少缺陷并提高图像的准确性。6100 X Mask和Wafer Inspection设备具有直观的用户界面和强大的图像分析功能。它可以定制为包括整个晶圆分析以及用于严格模式分析的统计过程控制（SPC）算法。这种高性能光学、成像和图像处理技术的结合确保了尽可能高的产量和可靠的过程控制。NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection System是一种影像解决方桉,结合了直观的用户界面、先进的图像处理和高性能的光学器件。它是半导体器件生产中光掩模和晶片表征和检验的理想装置。该机可用于检测和分析具有较高景深和较高分辨率图像的复杂结构，同时为过程控制提供可靠准确的结果。